Ultra High Resolution Wavefront Sensor

Den ultrahögupplösande vågfrontsensorn, med sin 512 × 512 ultrahög upplösning, uppnår precision i nanometernivå i data, vilket säkerställer omfattande täckning för detaljerad analys. Dess breda spektrala svarsområde från 400 till 1100 nanometer gör det lämpligt för olika ljuskällor. Dessutom erbjuder det 3D-resultat i realtid med full upplösning med en hastighet av 10 bilder per sekund, vilket ger en dynamisk och omedelbar bild av vågfrontdata. Detta gör det till en omfattande lösning för vågfrontavkänning och mätbehov.

Objektspecifikation ：

Funktion i Bojiong Ultra High Resolution Wavefront Sensor

◆ Ultrahög upplösning på 512 × 512 (262144) faspunkter

◆ Enkanalens ljus självstörning, inget referensljus krävs

◆ Precis som avbildning, enkel och snabb optisk vägkonstruktion

◆ Bredspektrum 400nm ~ 1100nm band

◆ 2nm RMS Hög fasupplösning

◆ Ultrahög vibrationsmotstånd, inget behov av optisk vibrationsisolering

◆ Stöder kollimerade balkar och stora NA -konvergerade balkar

 Applicering av Bojiong Ultra High Resolution Wavefront Sensor

Denna Bojiong Ultra High Resolution Wavefront -sensor som används i laserstråle vågfrontdetektering, adaptiv optik, mätning av ytform, optisk systemkalibrering, optisk fönsterdetektering, optiskt plan, sfärisk ytformmätning, ytfunktionsdetektering.

Bojiong Ultra High Resolution Wavefront Sensor Detales

BOJIONGUltra High ResolutionWavefront Sensor developed by a team of professors from Zhejiang University and Nanyang Technological University of Singapore, with domestic patented technology, it combines diffraction and interference to achieve a common four-wave transverse shear interference, with superior detection sensitivity and anti-vibration performance, and can realize real-time and high-speed dynamic interferometry without vibration isolation. Mätningen i realtid visar en bildhastighet på mer än 10 ramar. Samtidigt har FIS4-sensorn en ultrahög fasupplösning på 512 × 512 (260 000 faspunkter), mätbandet täcker 200nm ~ 15μm, mätkänsligheten når 2nm och mätningsbarheten är bättre än 1/1000λ (RM). Det kan användas för laserstråle-kvalitetsanalys, plasmflödesdetektering, realtidsmätning av höghastighetsflödesfördelning, utvärdering av bildkvalitet av optiskt system, mikroskopisk profilmätning och kvantitativ fasavbildning av biologiska celler.