Nära-infraröd vågfrontssensor

Den nära-infraröda vågfrontssensorn med ett imponerande dynamiskt omfång på upp till 270 μm. Den har exceptionellt vibrationsmotstånd och stabilitet, vilket möjliggör precisionsmätningar på nanometernivå utan behov av vibrationsisolering. Detta instrument är lämpligt för att mäta den interna gitterfördelningen av material, såväl som vågfrontsmätningar för metasytor och hyperlinser. Vi kommer alltid att följa principen om "kvalitet först, kunden först," och vi välkomnar kunderna att besöka oss för konsultation.

Varuspecifikation:

Funktion hos BOJIONG nära-infraröd vågfrontssensor

◆ Stort dynamiskt område upp till 270 μm

◆2nm RMS högfasupplösning

◆Ultrahög upplösning på 512×512 (262144) faspunkter

◆Självstörning av ljus med en kanal, inget referensljus krävs

◆Bredspektrum 900nm ~ 1200nm band

◆ Extremt stark antivibrationsprestanda, inget behov av optisk vibrationsisolering

◆ Precis som bildbehandling, enkel och snabb konstruktion av optisk väg

◆ Stöder kollimerade strålar och stora NA konvergerade strålar

 Applicering av BOJIONG nära-infraröd vågfrontssensor

Denna BOJIONG nära-infraröda vågfrontssensor används vid mätning av optisk systemaberration, optisk systemkalibrering, mätning av materialintern gitterfördelning, hypersurface, hyperlinsvågfrontmätning

BOJIONG nära-infraröd vågfrontssensor detaljer

BOJIONG Near-Infrared Wavefront Sensor utvecklad av ett team av professorer från Zhejiang University och Nanyang Technological University of Singapore, med inhemsk patenterad teknologi, kombinerar den diffraktion och interferens för att uppnå en vanlig fyrvågs tvärgående skjuvinterferens, med överlägsen detekteringskänslighet och anti- vibrationsprestanda och kan realisera dynamisk interferometri i realtid och hög hastighet utan vibrationsisolering. Realtidsmätningen visar en bildhastighet på mer än 10 bilder. Samtidigt har FIS4-sensorn en ultrahög fasupplösning på 512×512 (260 000 faspunkter), mätbandet täcker 200nm~15μm, mätkänsligheten når 2nm, och mätningsrepeterbarheten är bättre än 1/1000λ ( RMS). Den kan användas för laserstrålekvalitetsanalys, plasmaflödesfältdetektion, realtidsmätning av höghastighetsflödesfältdistribution, bildkvalitetsutvärdering av optiska system, mikroskopisk profilmätning och kvantitativ fasavbildning av biologiska celler.