Ultrahöghastighets vågfrontssensor

Under testning av flödesfält och vindtunnel finns det ett behov av ultrahöghastighetsdetektionsutrustning. Bojiong har introducerat Ultra High Speed ​​Wavefront Sensor. Denna enhet har ultrahögt vibrationsmotstånd, ultrahög stabilitet och ultrahöghastighetsavbildningsfunktioner, vilket möjliggör precisionsmätningar på nanonivå utan behov av vibrationsisolering. Den har låga krav på ljuskällans koherens och kräver ingen fasförskjutning. Interferometriska mätningar kan uppnås med hjälp av vanliga bildsystem.

Varuspecifikation:

Funktion hos BOJIONG Ultra High-Speed ​​Wavefront Sensor

◆Ultrahög upplösning på 420×420 (176400) faspunkter

◆2nm RMS högfasupplösning

◆Samplingbildhastighet upp till 107 fps

◆Självstörning av ljus med en kanal, inget referensljus krävs

◆Bredspektrum 400nm~1100nm band

◆ Extremt stark antivibrationsprestanda, inget behov av optisk vibrationsisolering

◆ Precis som bildbehandling, enkel och snabb konstruktion av optisk väg

◆ Stöder kollimerade strålar och stora NA konvergerade strålar

 Användning av BOJIONG Ultra High-Speed ​​Wavefront Sensor

Denna BOJIONG Ultra High-Speed ​​Wavefront Sensor som används i råhetsdetektering av skivor, kiselbaserad och glassubstrat mikromorfologimätning, aerodynamisk optik, höghastighetsflödesfält, gasplasmadensitetsmätning

BOJIONG Ultra High Speed ​​Wavefront Sensor Detaljer

BOJIONG Ultra High-Speed ​​Wavefront Sensor utvecklad av ett team av professorer från Zhejiang University och Nanyang Technological University of Singapore, med inhemsk patenterad teknologi, kombinerar den diffraktion och interferens för att uppnå en vanlig fyrvågs tvärgående skjuvinterferens, med överlägsen detektionskänslighet och anti -vibrationsprestanda, och kan realisera dynamisk interferometri i realtid och hög hastighet utan vibrationsisolering. Realtidsmätningen visar en bildfrekvens på mer än 10 bildrutor. Samtidigt har FIS4-sensorn en ultrahög fasupplösning på 512×512 (260 000 faspunkter), mätbandet täcker 200nm~15μm, mätkänsligheten når 2nm, och mätningsrepeterbarheten är bättre än 1/1000λ ( RMS). Den kan användas för laserstrålekvalitetsanalys, plasmaflödesfältdetektion, realtidsmätning av höghastighetsflödesfältdistribution, bildkvalitetsutvärdering av optiska system, mikroskopisk profilmätning och kvantitativ fasavbildning av biologiska celler.