Ultrahöghastighets Wavefront Analyzer

För applikationer som femtosekundlaser och flödesfältsanalys har BOJIONG speciellt utvecklat en Ultra High-speed Wavefront Analyzer som utför störningar i det bakre fokalplanet. Den har låga krav på ljuskällans koherens och kräver ingen fasförskjutning. Vanliga bildsystem kan användas för att uppnå interferometriska mätningar. Enheten har ultrahögt vibrationsmotstånd, ultrahög stabilitet, ultrahöghastighetsavbildningsförmåga och förmågan att uppnå precisionsmätningar på nanonivå utan behov av vibrationsisolering.

Varuspecifikation:

Funktion hos BOJIONG Ultra High-speed Wavefront Analyzer

◆Samplingbildhastighet upp till 107 fps

◆Bredspektrum 400nm~1100nm band

◆Ultrahög upplösning på 420×420 (176400) faspunkter

◆Självstörning av ljus med en kanal, inget referensljus krävs

◆2nm RMS högfasupplösning

◆ Extremt stark antivibrationsprestanda, inget behov av optisk vibrationsisolering

◆ Precis som bildbehandling, enkel och snabb konstruktion av optisk väg

◆ Stöder kollimerade strålar och stora NA konvergerade strålar

Användning av BOJIONG Ultra High-speed Wavefront Analyzer

Denna BOJIONG Ultra High-Speed ​​Wavefront Analyzer som används för detektering av råhet av waferytor, kiselbaserad och glassubstrat mikromorfologimätning, aerodynamisk optik, höghastighetsflödesfält, gasplasmadensitetsmätning

BOJIONG Ultra High-speed Wavefront Analyzer detaljer

BOJIONG Ultra High-Speed ​​Wavefront Analyzer utvecklad av ett team av professorer från Zhejiang University och Nanyang Technological University of Singapore, med inhemsk patenterad teknologi, den kombinerar diffraktion och interferens för att uppnå en vanlig fyrvågs tvärgående skjuvinterferens, med överlägsen detektionskänslighet och anti -vibrationsprestanda och kan realisera dynamisk interferometri i realtid och hög hastighet utan vibrationsisolering. Realtidsmätningen visar en bildfrekvens på mer än 10 bildrutor. Samtidigt har FIS4-sensorn en ultrahög fasupplösning på 512×512 (260 000 faspunkter), mätbandet täcker 200nm~15μm, mätkänsligheten når 2nm, och mätningsrepeterbarheten är bättre än 1/1000λ ( RMS). Den kan användas för laserstrålekvalitetsanalys, plasmaflödesfältdetektion, realtidsmätning av höghastighetsflödesfältdistribution, bildkvalitetsutvärdering av optiska system, mikroskopisk profilmätning och kvantitativ fasavbildning av biologiska celler.