Nyheter

Ultrahög upplösning på 512×512 (262144) faspunkter, för att uppnå högprecisionsvågfrontsmätning i 900nm till 1200nm-bandet, som kan användas för optisk systemaberrationsmätning, optisk systemkalibrering, materialintern gitterfördelningsmätning, metayta, superlins vågfrontsmätning etc.

Speciellt utvecklad för vågfrontsanalys i höghastighetsindustriella, försvars- och vetenskapliga forskningsscenarier som flygande skott och flödesfält, den har en ultrahög upplösning på 420×420 (176400) faspunkter, ett brett spektrumsvar på 400-1100nm, och 107 ramar med höghastighetssampling, vilket ger ett idealiskt mätverktyg för vågfrontsavkänning för wafers yta råhetsdetektering, kiselbaserad och glassubstratmikromorfologimätning, aerodynamisk optik, höghastighetsflödesfält, gasplasmadensitetsmätning, etc.

​Designad för att hjälpa vetenskaplig forskning och industriella scenarier med hög precision, högre upplösning kan ge mer detaljerad information vid vågfrontsdetektering, ultrahög upplösning på 512×512 (262144) faspunkter, 400-1100nm brett spektrumsvar, 10 bildrutor med full- upplösning i realtid 3D-resultatvisning, ger idealiska vågfrontsavkännande mätverktyg för laserstrålevågfront detektering, adaptiv optik, plan ytmätning, optisk systemkalibrering, optisk fönsterdetektering, optisk sfärisk ytmätning, ytråhetsdetektering, ytmikrokontur, etc.

Utvecklad speciellt för bekväm interferometrisk mätning inom industri, vetenskaplig forskning och nationellt försvar. Hög upplösning på 300×300 (90 000) faspunkter, 400-1100 nm bred spektral respons, 10 bildrutor med 3D-resultatvisning i realtid i full upplösning, vilket ger ett idealiskt mätverktyg för vågfrontsavkänning för laserstrålevågfrontdetektering, adaptiv optik, optiskt system kalibrering, optisk fönsterdetektering, optisk plan ytform, mätning av sfärisk ytform, yta ojämnhet, ytmikrokonturdetektering, etc.